光掩模材料是半导体制造中的关键材料之一，用于制作芯片上的图形掩模，是集成电路制造过程中的基础材料。是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明...
韶光芯材在复杂微纳薄膜开发、微纳图形结构设计、超平面度超硬材料制造等领域具有显著的技术优势。