Dry+Etcher
如何看待中国中微正式宣布掌握 5nm 刻蚀机技术?将产生...
如何看待中国中微正式宣布掌握 5nm 刻蚀机技术？将产生哪些积极影响？今天下午（5月24日）中微的董事长尹总来我行讲座，70多岁的老人讲了3个...
集成电路的制造工艺有哪些?
后栅工艺（Gate Last）中则直接使用金属栅，相关结构示意图见下文。MG指的是栅极用金属栅（Metal Gate）替代传统的多晶硅栅，来改善硅耗尽效应...
中国(大陆)半导体能崛起吗?
答：将晶圆表面的水份去除 列举目前 Wet bench dry 方法:答：(1) Spin Dryer (2) Marangoni dry (3) IPA Vapor Dry 何谓 Spin Dryer答：...答：Buffered Oxide Etcher 。有毒气体之阀柜(VMB)功用为何? 答：当有毒气体外泄时可利用抽气装置抽走,并防止有毒气体漏出 电浆的频率一般 13...
FAB TD术语TO 和NTO的区别?
答：HF(氢氟酸)与NH4F(氟化铵).BOE 为那三个英文字缩写 ?答：Buffered Oxide Etcher 。有毒气体之阀柜(VMB)功用为何?答：当有毒气体外泄时...答：因为温度会影响制程条件;如etching rate/均匀度为何需要注意dry pump exhaust presure (pump 出口端的气压)?答：因为气压若太大会造成pump ...