5MEE光刻机是多少纳米？

5纳米。5nm光刻机的原意应该是可以实现5纳米制程的光刻机，是EUV极紫外线光刻机。EUV使用了13.5纳米的极紫外线激光源，比193纳米深紫外线光源的DUV光刻机能力更强。...

MEE5光刻机的精度为25纳米。

半导体不是夕阳行业，它是数字世界的基石。AI图像识别，5g，wifi，机器人，自动化都少不了半导体行业提供的芯片和传感器。